Introducción Caracterización Microestructural: MEB y XPS.
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© ITC-AICE Estudio por XPS/MEB de un recubrimiento de TiO 2 con propiedades fotocatalíticas y superhidrófilas sobre soporte cerámico. 1. Introducción 2. Caracterización Microestructural: MEB y XPS.
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Estudio por XPS/MEB de un recubrimiento de TiO 2 con propiedades fotocatalíticas y superhidrófilas sobre soporte cerámico. Introducción Caracterización Microestructural: MEB y XPS. Autolimpiable. TiO 2. Capa de protección. Capa de protección SiO 2. Sustrato. 1. Introducción. - PowerPoint PPT Presentation
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Estudio por XPS/MEB de un recubrimiento de TiO2 con propiedades fotocatalíticas y superhidrófilas sobre soporte cerámico.
1. Introducción
2. Caracterización Microestructural: MEB y XPS.
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1. Introducción
• Los productos cerámicos recubiertos con TiO2 muestran actividad fotocatalítica y el efecto hidrófilo.
• Efecto Fotocatalítico: oxidación de materia orgánica
• Efecto superhidrófilo: reduce el ángulo de contacto con el agua
Capa de protección SiO2
Capa de protección
TiO2
Sustrato
• Requisitos:
• Nanopartículas de TiO2 con estructura cristalina de anatasa.
• Buena adherencia con el substrato cerámico.
• Evitar la difusión de iones Na+ procedentes del sustrato cerámico.
Autolimpiable
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FUENTE: www.permaweld.com/nano.html
Estudio por XPS de recubrimientos de TiO2 con propiedades fotocatalíticas y superhidrófilas sobre soporte cerámico.
Fuente: ITC/AICE
Capa de protecciónTiO2
SustratoSR CRFuente: TOTO LTD
SR CR
SR CR
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2. Microscopia electrónica de barrido (MEB)
B
A
Zona A Zona B
3 µm
Superficie del recubrimiento de TiO2
0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10E (keV)
cue
nta
s (%
)Si
O
Al
Ti
NaMg
SE0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10E (keV)
cue
nta
s (%
)
Si
O
Al
K TiNa
Recubrimiento desarrollado en colaboración con el Institut Für Neue Materialen (INM)
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0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
0 2000 4000 6000 8000 10000
Tiempo de "sputtering" (s)
% A
tóm
ico
Al % Na % O % Si % Ti %
2. Espectroscopia de fotoelectrones (XPS/ESCA)
• Perfil de composición en profundidad
5 µm
Zona A
SOPORTE
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Los picos se desplazan dependiendo de los compuestos de los que forman parte
Perfiles de:
•Ti 2p (enlaces Ti-O y Si-O-Ti)
•Si 2p (enlaces Si-O y Si-O-Ti)
•O 1p (enlaces O-Si, O-Ti, Si-O-Ti) (pulsar ↓ para seguir)
2. Espectroscopia de fotoelectrones (XPS/ESCA)
449454459464469
Binding Energy (eV)
Un
ida
de
s A
rbit
rari
as
0 nm
19 nm
89 nm
183 nm
324 nm
630 nm
Ti 2pTi-OSi-O-Ti
959799101103105107109111
Binding Energy (eV)
Un
idad
es A
rbit
rari
as
630 nm
324 nm
183 nm
89 nm
19 nm
0 nm
Si 2pSi-O
Si-O-Ti
522524526528530532534536538540
Binding Energy (eV)
Un
idad
es A
rbit
rari
as
630 nm
324 nm
183 nm
89 nm
19 nm
0 nm
O 1sSi-O Ti-O
Si-O-Ti
(pulsar ↓ para seguir)
El estudio por MEB y XPS permite concluir que hay una difusión del Si4+, presente en la capa protectora hacia la superficie de la muestra, así como una difusión de los elementos que constituyen el soporte cerámico a través de la capa de SiO2.
